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MIT研究院用銦鎵砷化合物造出史上最小晶體管

2012-12-12 9:10:23來源:網(wǎng)絡(luò)作者:
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  • MIT的微系統(tǒng)實(shí)驗(yàn)室(Microsystems Technology Laboratories)聲稱已經(jīng)造出了史上最小的晶體管,用的卻是硅以外的材料。該晶體管由已經(jīng)應(yīng)用于光纖和雷達(dá)技術(shù)上的銦鎵砷化物(indium gallium arsenide,IGA)制造,厚度僅有22nm(約9股人類DNA)。
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  • MIT 銦鎵砷 晶體管

MIT的微系統(tǒng)實(shí)驗(yàn)室(Microsystems Technology Laboratories)聲稱已經(jīng)造出了史上最小的晶體管,用的卻是硅以外的材料。該晶體管由已經(jīng)應(yīng)用于光纖和雷達(dá)技術(shù)上的銦鎵砷化物(indium gallium arsenide,IGA)制造,厚度僅有22nm(約9股人類DNA)。因?yàn)檫@是在微處理器里使用的相同類型的晶體管,這意味著芯片可以更加密集、提供更高的性能。

研究人員希望找到一個替代硅的材料,在更小的尺度上實(shí)現(xiàn)更高的速度和效率,以迫近摩爾定律所預(yù)測的進(jìn)程。合作開發(fā)人員和麻省理工學(xué)院的教授Jesus del Alamo稱,這方面的發(fā)展“將確保摩爾定律達(dá)到硅片所不能達(dá)到的程度”(take Moore‘s Law beyond the reach of silicon)。

MIT News的報道稱,研究人員下一步將提高晶體管的電氣性能和整體速度。若小組成功達(dá)到了這個目標(biāo),他們將繼續(xù)朝著小于10nm的目標(biāo)前進(jìn)。
 

(關(guān)鍵字:MIT 銦鎵砷 晶體管)

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